光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中，其動態(tài)力學(xué)特性的好壞直接影響試驗結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。儀器設(shè)備的微振動直接影響精密儀器設(shè)備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升，需要不斷提高光學(xué)平臺的振動隔離技術(shù)。精密隔振系統(tǒng)設(shè)計需要考慮的環(huán)境微振動干擾是復(fù)雜的，包括：大型建筑物本身的擺動、地面或樓層間傳來的振動、電動儀器和設(shè)備的振動、各類機(jī)械振動、聲音引起的振動、外界街道交通引起的振動，甚至包括人員走動所引起的振動等。精密的光學(xué)實驗依賴于可靠的定位穩(wěn)定性，工作區(qū)域內(nèi)及附近的振動會造成光學(xué)部件間的相對運動，從而產(chǎn)生不可接受的偏移，這些偏移會導(dǎo)致：采集的圖像模糊、光斑偏移造成無法采集數(shù)據(jù)或數(shù)據(jù)采集不準(zhǔn)等現(xiàn)象，所以光學(xué)平臺的選擇對于提升實驗精度，起著至關(guān)重要的作用。從結(jié)構(gòu)上來看，光學(xué)平臺主要分為臺面和支架兩部分，所以光學(xué)平臺的隔振性能取決于臺面本身和支架的隔振性能，總體上說，光學(xué)平臺的隔振，通過三個方面來實現(xiàn)。通常來說，氣浮式隔振支架性能優(yōu)于阻尼式隔振支架，部分性能優(yōu)異的隔振支架可以將外界振動（常見10～200Hz）減少一至兩個數(shù)量級，要求臺面有一定的剛性而且較輕（硬重比），這樣的臺面可以有效減少共振時的振幅。臺面的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，除了負(fù)責(zé)減輕支架未能消除的外界振動外對于降低或消除因臺面上的沖擊和相對運動引起的振動，起到至關(guān)重要的作用。優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機(jī)器設(shè)備來加工，更需要有高科技精度的檢測手段與檢測儀器來保證，也只有優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺才能保證高精度的科學(xué)實驗、科學(xué)研究的正常進(jìn)行。
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